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真空懸浮熔煉爐

真空懸浮熔煉爐

所屬分類:小型真空熔煉爐

產(chǎn)品型號(hào):KZGXF-1

更新時(shí)間:2023-04-03

描述:真空懸浮熔煉爐充分利用了電磁感應(yīng)的原理,利用分瓣水冷銅坩堝使物料懸浮脫離坩堝,達(dá)到高溫熔化不污染物料的目的,應(yīng)用于高溫合金、高熵合金、活潑金屬的冶煉。

詳細(xì)信息

一、真空懸浮熔煉爐設(shè)備簡(jiǎn)介
充分利用了電磁感應(yīng)的原理,利用分瓣水冷銅坩堝使物料懸浮脫離坩堝,達(dá)到高溫熔化不污染物料的目的,應(yīng)用于高溫合金、高熵合金、活潑金屬的冶煉。 主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬,在冶金和新材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,顯示出良好的應(yīng)用前景。

二、真空懸浮熔煉爐設(shè)備原理

真空磁懸浮熔煉方法,是通過(guò)高頻或中頻交變磁場(chǎng),在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力,使熔體懸浮,與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項(xiàng)集電磁學(xué)、流體學(xué)、熱力學(xué)、力學(xué)、物理化學(xué)及冶金等多學(xué)科于一體的綜合冶金技術(shù)。因此受到了人們廣泛的觀注,在許多材料制備領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于磁懸浮的作用,使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸,這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導(dǎo)散熱改為輻射散熱,從而導(dǎo)致散熱速度聚減,使熔體可達(dá)到很高的溫度(1700~2500℃),宜于熔煉高熔點(diǎn)金屬或其合金。更重要的方面是:熔煉時(shí)爐料的懸浮將有效防止?fàn)t料與坩堝壁接觸所帶來(lái)的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1·額定功率:≤150-200Kw

2·容量(以鐵計(jì)):水冷銅坩堝, 1000g

3·輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz

4·冷態(tài)極限真空度:6.67×10E-4Pa

5·熔煉溫度≥2100℃(根據(jù)材料熔點(diǎn)不同熔煉溫度不同)

6·水冷銅坩堝≤¢100 熔煉溫度低于2100度的金屬合金(根據(jù)熔煉材料定)

7·可充保護(hù)氣≤0.03Mpa

8·控制方式:操作模擬屏+PLC,配置手動(dòng)操作按鈕

9·操作模式:主要閥門氣動(dòng)、電動(dòng)

四、特點(diǎn)和功能:

1、在熔煉過(guò)程中可在不破壞熔煉室真空情況下進(jìn)行測(cè)溫、取樣、搗料、觀察、補(bǔ)加料和合金成份調(diào)整等。與此同時(shí)可通過(guò)充氣閥充入惰性氣體以控制爐內(nèi)的壓力和氣氛。澆鑄可澆一錠和多錠及裝入預(yù)熱保溫錠模、水冷錠模、砂型箱等以及進(jìn)行澆鑄。

2、加熱電源可采用IGBT中頻電源,IGBT中頻電源是采用串聯(lián)諧振式的中頻感應(yīng)電源,逆變器件為新型IGBT模塊,其主要優(yōu)點(diǎn)有以下幾下方面:

①逆變電壓高,電流小,線路損耗小,此部分比傳統(tǒng)可控硅中頻電源可節(jié)能10%左右。

②功率因數(shù)高,功率因數(shù)始終大于0.9,無(wú)功損耗小,此部分比傳統(tǒng)可控硅中頻電源節(jié)能3%~5%。

③高次諧波干擾?。?IGBT晶體管中頻電源的整流部分采用半可控整流方式,直流電壓始終工作在高,不調(diào)導(dǎo)通角,所以它不會(huì)產(chǎn)生高次諧波,不會(huì)污染電網(wǎng),不會(huì)干擾工廠內(nèi)其他電子設(shè)備運(yùn)行。

④可恒功率輸出:可控硅中頻電源采用調(diào)壓調(diào)功,而IGBT晶體管中頻電源采用調(diào)頻調(diào)功,不受爐料多少和爐襯厚薄的影響,在整個(gè)熔煉過(guò)程中保持恒功率輸出,尤其是生產(chǎn)不銹鋼、銅、鋁等不導(dǎo)磁物質(zhì)時(shí),更顯示它的*性,熔化速度快,減少爐料元素?zé)龘p少,降低成本。

 

 

 

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